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低溫恒溫水槽MD5-4，容積4.5L，控溫范圍-5℃～90℃，溫度波動度0.05℃，提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用

低溫恒溫水槽（-20℃～100℃）MD20系列，恒溫波動度達到±0.05℃，提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源

超低溫恒溫裝置（-90℃～100℃）采用復疊式壓縮制冷，噪音低，制冷效率高，可以提供熱冷受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，恒溫波動度達到±0.1℃

加熱制冷浴槽（-30℃～90℃）主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成，用于-30℃石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用

大容量加熱制冷浴槽MD30-100，容積100L，控溫范圍：-30℃～90℃（高至溫度100℃），可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于-30℃的樣品保存、分析測試和計量檢定等

加熱制冷浴槽MD30-12（-30℃～90℃），容積12L，控溫范圍-30℃～90℃，用于石油化工、制藥及半導體工業(yè)等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用

低溫恒溫槽MD10-30$n低溫恒溫水槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

低溫恒溫槽MD10-20$n低溫恒溫水槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

加熱制冷浴槽（-30℃～90℃）主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成，可以直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥及半導體工業(yè)等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用。